مکانیسم تمیز کردن لیزر و پارامترها بر قانون تأثیر می گذارد

تمیز کردن لیزر روشی موثر برای حذف سطح جامد مواد و اندازه های مختلف ذرات کثیف و لایه فیلم است. از طریق روشنایی بالا و لیزر پیوسته یا پالسی جهت دار خوب، از طریق فوکوس نوری و شکل دهی نقطه ای برای تشکیل یک شکل نقطه ای خاص و توزیع انرژی پرتو لیزر، تابش شده به سطح مواد آلوده برای تمیز کردن، مواد آلاینده متصل شده لیزر را جذب می کنند. انرژی، مجموعه ای از فرآیندهای فیزیکی و شیمیایی پیچیده مانند لرزش، ذوب، احتراق و حتی گازی شدن را تولید می کند و در نهایت باعث ایجاد آلودگی از سطح ماده می شود حتی اگر لیزر بر روی سطح تمیز شده، اکثریت قریب به اتفاق منعکس شود. خاموش، بستر باعث آسیب نمی شود تا به اثر تمیز کردن دست یابد.تصویر زیر: زدودن زنگ زدگی سطح نخ و تمیز کردن.

 

تمیز کردن لیزر را می توان مطابق با استانداردهای طبقه بندی مختلف طبقه بندی کرد. همانطور که مطابق با فرآیند تمیز کردن لیزر، سطح بستر با فیلم مایع پوشیده شده است، به تمیز کردن لیزر خشک و تمیز کردن لیزر مرطوب تقسیم می شود. اولی تابش مستقیم سطح آلودگی لیزر است، دومی باید روی رطوبت سطح تمیز کننده لیزر یا فیلم مایع اعمال شود. تمیز کردن لیزر مرطوب با راندمان بالا، اما تمیز کردن مرطوب لیزری نیاز به پوشش دستی فیلم مایع دارد، که نیاز به ترکیب فیلم مایع نمی تواند ماهیت مواد بستر را تغییر دهد. بنابراین، نسبت به فناوری تمیز کردن لیزر خشک، تمیز کردن لیزر مرطوب دارای محدودیت هایی در حوزه کاربرد است. در حال حاضر تمیز کردن با لیزر خشک پرکاربردترین روش تمیز کردن لیزر است که از پرتو لیزر برای تابش مستقیم سطح قطعه کار برای حذف ذرات و لایه‌های نازک استفاده می‌کند.

لیزرDry Cتکیه دادن

اصل اساسی خشکشویی لیزری ذرات و زیرلایه مواد با تابش لیزر است، تبدیل لحظه ای انرژی نور جذب شده به گرما، که باعث انبساط حرارتی آنی ذره یا بستر یا هر دو می شود، بین ذره و بستر فوراً شتاب ایجاد می کند. نیروی ایجاد شده توسط شتاب برای غلبه بر جذب بین ذره و بستر، به طوری که ذره از سطح بستر.

با توجه به روش های مختلف جذب لیزر خشکشویی، خشکشویی لیزری را می توان به دو شکل اصلی زیر تقسیم کرد:

1.Fیا نقطه ذوب بیشتر از ماده اصلی (یا اختلاف سرعت جذب لیزر) ذرات غبار است: ذرات تابش لیزر را جذب می کنند قوی تر از جذب بستر (a) یا برعکس (b) است، سپس ذرات نور لیزر را جذب می کنند. انرژی تبدیل به انرژی حرارتی می شود و باعث انبساط حرارتی ذرات می شود، اگرچه میزان انبساط حرارتی بسیار کم است، اما انبساط حرارتی در مدت زمان بسیار کوتاهی است، بنابراین شتاب آنی عظیمی بر روی زیرلایه وجود خواهد داشت، در حالی که عمل متقابل بستر بر روی ذرات، نیروی برای غلبه بر نیروی جذب متقابل، به طوری که ذرات از بستر، اصل نمودار شماتیک همانطور که در شکل 1 نشان داده شده است.

 

2. برای نقطه جوش پایین تر کثیفی: خاک سطحی به طور مستقیم انرژی لیزر را جذب می کند، تبخیر جوش در دمای بالا، تبخیر مستقیم برای حذف کثیفی، اصل همانطور که در شکل 2 نشان داده شده است.

 

لیزرWet Cتکیه دادنPاصل

تمیز کردن مرطوب با لیزر به عنوان تمیز کردن با بخار لیزر نیز شناخته می شود، بر خلاف تمیز کردن خشک، تمیز کردن مرطوب در حضور یک لایه نازک از فیلم مایع یا فیلم رسانه ای با ضخامت چند میکرون بر روی سطح قطعات تمیز کننده، فیلم مایع با تابش لیزر است. دمای فیلم مایع فوراً افزایش می‌یابد و تعداد زیادی حباب را به واکنش گازی‌سازی، انفجار گازی‌سازی که در اثر برخورد ذرات و بستر ایجاد می‌شود برای غلبه بر نیروی جذب بین تولید می‌کند. با توجه به ذرات، فیلم مایع و بستر بر روی ضریب جذب طول موج لیزر متفاوت است، تمیز کردن مرطوب لیزری را می توان به سه نوع تقسیم کرد.

1.جذب قوی انرژی لیزر توسط زیرلایه

 

تابش لیزر بر روی بستر و فیلم مایع، جذب لیزر توسط لایه بسیار بیشتر از لایه مایع است، بنابراین تبخیر انفجاری در سطح مشترک بین بستر و فیلم مایع رخ می دهد، همانطور که در شکل زیر نشان داده شده است. از نظر تئوری، هرچه مدت زمان پالس باریکتر باشد، تولید سوپر گرما در محل اتصال آسانتر است که منجر به ضربه انفجاری بیشتر می شود.

2. جذب قوی انرژی لیزر توسط غشای مایع

 

اصل این تمیز کردن این است که فیلم مایع بیشتر انرژی لیزر را جذب می کند و تبخیر انفجاری روی سطح فیلم مایع اتفاق می افتد، همانطور که در شکل زیر نشان داده شده است. در این زمان، راندمان تمیز کردن لیزر به خوبی جذب بستر نیست، زیرا در این زمان تاثیر انفجار بر روی سطح فیلم مایع است. در حالی که جذب بستر، حباب ها و انفجارها در تقاطع لایه لایه و مایع رخ می دهد، ضربه انفجاری آسان تر است تا ذرات را از سطح بستر دور کند، بنابراین، اثر تمیز کردن جذب بستر بهتر است.

3.هم زیرلایه و هم غشای مایع به طور مشترک انرژی لیزر را جذب می کنند

 

 

در این زمان، راندمان تمیز کردن بسیار پایین است، پس از تابش لیزر به فیلم مایع، بخشی از انرژی لیزر جذب می شود، انرژی در سراسر فیلم مایع داخل پراکنده می شود، فیلم مایع برای تولید حباب می جوشد، انرژی لیزر باقی مانده است. همانطور که در شکل نشان داده شده است از طریق لایه مایع توسط بستر جذب می شود. این روش به انرژی لیزر بیشتری برای تولید حباب های جوش قبل از وقوع انفجار نیاز دارد. بنابراین راندمان این روش بسیار پایین است.

تمیز کردن لیزر مرطوب با استفاده از جذب بستر، زیرا بیشتر انرژی لیزر توسط بستر جذب می شود، باعث ایجاد یک فیلم مایع و گرمای بیش از حد محل اتصال بستر می شود، در مقایسه با تمیز کردن خشک، حباب هایی در سطح مشترک ایجاد می کند، استفاده مرطوب از انفجار حباب اتصال ایجاد می شود. با تاثیر تمیز کردن لیزر، در حالی که می توانید مقدار معینی از مواد شیمیایی در فیلم مایع و ذرات آلاینده را به واکنش شیمیایی اضافه کنید تا ذرات و زیرلایه نیروی جذب بین مواد را کاهش دهید تا آستانه لیزر کاهش یابد. تمیز کردن بنابراین، تمیز کردن مرطوب می تواند کارایی تمیز کردن را تا حدودی بهبود بخشد، اما در عین حال مشکلات خاصی وجود دارد، معرفی فیلم مایع ممکن است منجر به آلودگی جدید شود و کنترل ضخامت فیلم مایع دشوار است.

عواملAموثر برQکیفیت ازLaserCتکیه دادن

اثر ازLaserWطول همسطح

فرض تمیز کردن لیزر، جذب لیزر است، بنابراین، در انتخاب منبع لیزر، اولین کاری که باید انجام دهید این است که با ترکیب ویژگی های جذب نور قطعه کار تمیزکننده، لیزری با طول موج مناسب را به عنوان منبع نور لیزر انتخاب کنید. علاوه بر این، تحقیقات تجربی دانشمندان خارجی نشان می‌دهد که تمیز کردن همان ویژگی‌های ذرات آلاینده، هرچه طول موج کوتاه‌تر باشد، ظرفیت تمیز کردن لیزر قوی‌تر، آستانه تمیز کردن کمتر می‌شود. مشاهده می شود که برای برآوردن ویژگی های جذب نور مواد در محل، به منظور بهبود اثربخشی و کارایی تمیز کردن، باید طول موج کوتاه تری از لیزر را به عنوان منبع نور تمیزکننده انتخاب کرد.

    

اثر ازPصاحبDانسیت

در تمیز کردن لیزر، چگالی توان لیزر یک آستانه آسیب بالا و آستانه تمیز کردن پایین است. در این محدوده، هرچه چگالی توان لیزر تمیز کردن لیزر بیشتر باشد، ظرفیت تمیز کردن بیشتر است، اثر تمیز کنندگی آشکارتر است. بنابراین نباید به مواد بستر در کیس آسیب وارد شود، باید تا حد امکان بالا باشد تا چگالی توان لیزر افزایش یابد.

   

 

اثر ازPulseWidth

این لیزر منبع تمیز کردن لیزر می تواند نور مداوم یا نور پالسی باشد، لیزر پالسی می تواند اوج قدرت بسیار بالایی را ارائه دهد، بنابراین می تواند به راحتی شرایط آستانه را برآورده کند. و مشخص شد که در فرآیند تمیز کردن زیرلایه ناشی از اثرات حرارتی، ضربه لیزر پالسی کوچکتر است، لیزر پیوسته ناشی از تاثیر حرارتی منطقه بزرگتر است.

   

 

اینEاثر ازSکنسرو کردنSادرار کردن وNتعداد ازTimes

بدیهی است که در فرآیند تمیز کردن لیزر، هرچه سرعت اسکن لیزری بیشتر باشد، دفعات کمتری راندمان تمیز کردن بالاتر است، اما این ممکن است باعث کاهش اثر تمیز کنندگی شود. بنابراین، در فرآیند درخواست تمیز کردن واقعی، باید بر اساس ویژگی های مواد قطعه کار تمیز کردن و وضعیت آلودگی انتخاب شود تا سرعت اسکن مناسب و تعداد اسکن ها انتخاب شود. اسکن میزان همپوشانی و غیره نیز بر اثر تمیز کردن تأثیر می گذارد.

   

 

اثر ازAسوار شدن ازDمتمرکز کردن

تمیز کردن لیزر قبل از لیزر عمدتاً از طریق ترکیب خاصی از لنزهای فوکوس برای همگرایی، و فرآیند واقعی تمیز کردن لیزر، به طور کلی در مورد فوکوس زدایی، هر چه میزان تمرکززدایی بیشتر باشد، بر روی مواد بتابد، نقطه بزرگتر، بزرگتر منطقه اسکن، بازده بالاتر است. و در مجموع قدرت قطعی است، هر چه میزان تمرکززدایی کمتر باشد، چگالی توان لیزر بیشتر است، ظرفیت تمیز کردن قوی تر است.

   

 

خلاصه

از آنجایی که در تمیز کردن لیزر از هیچ حلال شیمیایی یا سایر مواد مصرفی استفاده نمی شود، سازگار با محیط زیست، ایمن است و مزایای بسیار زیادی دارد:

 

1. سبز و سازگار با محیط زیست، بدون استفاده از مواد شیمیایی و محلول های پاک کننده,

2. زباله تمیز کردن عمدتا پودر جامد، اندازه کوچک، آسان برای جمع آوری و بازیافت است,

3. تمیز کردن دود زباله آسان برای جذب و رسیدگی است، سر و صدای کم، بدون آسیب به سلامت شخصی است,

4. تمیز کردن بدون تماس، بدون باقی مانده رسانه ها، بدون آلودگی ثانویه,

5. تمیز کردن انتخابی را می توان به دست آورد، بدون آسیب به بسترها,

6. بدون مصرف متوسط ​​کار، فقط مصرف برق، کم هزینه استفاده و نگهداری,

7. Eبرای دستیابی به اتوماسیون، کاهش شدت کار,

8. مناسب برای مناطق یا سطوح صعب العبور، برای محیط های خطرناک یا خطرناک.

    

    

 

Maven Laser Automation Co., Ltd. تولید کننده حرفه ای دستگاه جوش لیزر، دستگاه تمیز کننده لیزر، دستگاه مارک لیزر به مدت 14 سال است. از سال 2008، Maven Laser بر توسعه و تولید انواع مختلف دستگاه‌های حکاکی/جوشکاری/علامت‌گذاری/تمیز کردن لیزر با مدیریت پیشرفته، قدرت تحقیقاتی قوی و استراتژی جهانی شدن پایدار تمرکز کرد، لیزر Maven یک سیستم فروش محصول و خدمات کامل‌تر را در چین ایجاد کرد. در سراسر جهان، برند جهانی را در صنعت لیزر بسازید.

علاوه بر این، ما توجه زیادی به خدمات پس از فروش داریم، خدمات خوب و کیفیت خوب برای لیزر Maven از روح "اعتبار و صداقت" پیروی می کند، بهترین تلاش را برای ارائه محصول فوق العاده بیشتر و خدمات بهتر به مشتری دارد.

Maven Laser - تامین کننده تجهیزات لیزر حرفه ای قابل اعتماد!

به همکاری با ما و دستیابی به برد-برد خوش آمدید.